高純度氟化氫應用

詳細介紹:

氟化氫，英文名為hydrofluoric acid，有刺激性氣味，劇毒。能與一般金屬、金屬氧化物以及氫氧化物發生反應，生成各種鹽類。腐蝕性極強，能侵蝕玻璃和硅酸鹽而生成氣態的四氟化硅。易溶于水、醇，難溶于其他有機溶劑。

高純度氟化氫，又名電子級氫氟酸，是無機酸的一種，具有弱酸性，常溫下為無色透明液體，易揮發，有強烈的刺激性氣味，腐蝕性較強，可以與金屬鹽的氧化物和氫氧化物發生化學反應生成氟化鹽，從而造成對金屬鹽的腐蝕作用。其中最典型的反應是與硅酸鹽或二氧化硅反應生成氣態的四氟化硅，這也是其能夠在電子制造行業得以應用的主要原因。

電子級氫氟酸在工業中主要是用作清洗劑和蝕刻劑，刻蝕是指通過物理或者化學作用將光刻膠上的圖形進一步轉移到基板上，從而形成電子元器件的過程。另外，它還可以用作分析試劑及制備高純含氟化學品。電子級氟氫酸主要用于半導體、太陽能和液晶顯示器等領域，是這些行業中關鍵的輔助材料之一。其中最大應用市場是半導體產業，約占電子級氫氟酸總消耗量47.3%；其次是太陽能產能，比重22.1%；液晶顯示器產業則占18.3%。

發表日期：2021/5/27  瀏覽次數：1183